gb50472—2008《电子工业洁净厂房设计规范》
gb51123-2015 《光纤器件生产厂工艺设计规范》
光纤器件无尘车间
研磨抛光车间、熔融拉锥车间和平面波导法生产工艺车间温度宜保持在10℃~30℃之间,相对湿度宜保持在40%~75%。
研磨抛光车间、平面波导法生产工艺车间应为30万级及以上的厂房,熔融拉锥法生产工艺车间和光刻车间应为100万级以上的洁净厂房。
研磨抛光工序、熔融拉锥工序和光刻工序应在洁净室,光纤耦合器和隔离器的组装封装宜在洁净区或洁净室。
研磨抛光工序、熔融拉锥工序和光刻工序应在洁净室,光纤耦合器和隔离器的组装封装宜在洁净区或洁净室。
光纤器件生产厂房洁净区空气洁净度等级宜为8级,换气次数宜为12至15次。
厂房室内温度宜为22℃±3℃,相对湿度宜为40%~60%。
洁净区压差控制应按照《洁净厂房设计规范》gb 50073的规定执行,宜不小于10pa。
生产中产生粉尘和有害气体的工艺设备,应设局部排风装置,对排风介质中有害物应进行处理。
洁净室内灯具的布置,不应影响气流组织,并应与送风口协调布置;
●食品工业洁净用房净化空调系统;
●gmp医药工业洁净厂房净化空调系统;
●微电子、光电无尘车间净化空调系统;
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